Kategorie:Nano-Schichtenbildung

Für die meisten Anwendungsbereiche der Plasma Technologie wird Nano-beschichtetes Kupfer verwendet.

Das Beschichten erfolgt chemisch durch Ätzen mit NaOH. Im Zuge des Beschichtungsprozesses entstehen "Lücken" zwischen den Atomen der äußeren Kupferschicht und den Nano-schichten, welche durch spezifische magnetische Interaktionen zum Zentrum vom Energie und Informationen werden. Auf der Kupferoberfläche bilden sich mikroskopisch kleine Schichten, die wiederum aus kleinen Partikeln bestehen, die wie Drähte aussehen. Diese werden auf Grund ihrer Größe im Nano-meter Bereich (äußerst klein) "Nano-Drähte" genannt. Deshalb wird das Beschichten auch als das Nano-Beschichten bezeichnet. Diese Nano-Schichten haben die Eigenschaft, im Zuge des Beschichtungsprozesses, zu wachsen.

Egal ob es um die Produktion von GANS geht, oder um die Verwendung in Geräten, die Nano-Beschichtung gehört zum Grundbestandteil der Plasma Technologie.