Kategorie:Nano-Schichtenbildung: Unterschied zwischen den Versionen

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Für die meisten Anwendungsbereiche der Plasma Technologie wird Nano-beschichtetes Kupfer verwendet.  
 
Für die meisten Anwendungsbereiche der Plasma Technologie wird Nano-beschichtetes Kupfer verwendet.  
  
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Egal ob es um die Produktion von GANS geht, oder um die Verwendung in Geräten, die Nano-Beschichtung bzw. auch Nano-Technology gehört zum Grundbestandteil der Plasma Wissenschaften und Technologie.
 
Egal ob es um die Produktion von GANS geht, oder um die Verwendung in Geräten, die Nano-Beschichtung bzw. auch Nano-Technology gehört zum Grundbestandteil der Plasma Wissenschaften und Technologie.
  
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[[Kategorie:Grundlagen der Plasma Technologie]]
 

Version vom 11. Juni 2019, 21:51 Uhr

Für die meisten Anwendungsbereiche der Plasma Technologie wird Nano-beschichtetes Kupfer verwendet.

Das Beschichten erfolgt chemisch durch Ätzen mit NaOH. Im Zuge des Beschichtungsprozesses entstehen "Lücken" zwischen den Atomen der äußeren Kupferschicht und den Nano-schichten, welche durch spezifische magnetische Interaktionen zum Zentrum vom Energie und Informationen werden. Auf der Kupferoberfläche bilden sich mikroskopisch kleine Schichten, die wiederum aus kleinen Partikeln bestehen, die wie Drähte aussehen. Diese werden auf Grund ihrer Größe im Nano-meter Bereich (äußerst klein) "Nano-Drähte" genannt. Deshalb wird das Beschichten auch als das Nano-Beschichten bezeichnet. Diese Nano-Schichten haben die Eigenschaft, im Zuge des Beschichtungsprozesses, zu wachsen.

Egal ob es um die Produktion von GANS geht, oder um die Verwendung in Geräten, die Nano-Beschichtung bzw. auch Nano-Technology gehört zum Grundbestandteil der Plasma Wissenschaften und Technologie.

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